Katoodkaare plasmasadestamise tehnoloogia kasutamine. Katoodkaare plasmasadestamine on suhteliselt uus õhukese kile sadestamise tehnoloogia, mis on paljuski sarnane ioonplaadistusega. Selle eelised: suur ionisatsioonikiirus emiteeritud osakeste voolus ja nendel ioniseeritud ioonidel on kõrge kineetiline energia (40-100eV).
Paljud ioonkiirega sadestamise eelised, nagu parem adhesioon, suurenenud olekutihedus ja kõrge reaktsioonivõime ühendi kile moodustumisel, kajastuvad kõik katoodkaare plasmasadestamises. Katoodkaare plasmasadestusel on oma ainulaadsed eelised, näiteks võime sadestada keerukama kujuga aluspindadele, millel on kõrge sadestuskiirus, hea katte ühtlus, madal substraadi temperatuur ja ideaalse keemilise suhtega ühendite või sulamite lihtne valmistamine. .
Katoodimaterjal aurustub aurustusprotsessis suure voolutiheduse tõttu ning tekkiv aurustuv materjal koosneb elektronidest, ioonidest, tsentraalse gaasifaasi aatomitest ja osakestest. Katoodikaare punktis ioniseeritakse materjal peaaegu kohe. Ioonid eralduvad suunas, mis on peaaegu risti katoodi pinnaga. Kui suure energiaga kroomiioonid puutuvad kokku lämmastikuga, läbivad nad kohe keemilise reaktsiooni ja muutuvad gaasiliseks. Kroomnitriidi molekulid.
